纯水系统

超纯水项目

工艺流程

本项目适用于半导体新材料项目超纯水系统，满足设备的设计、结构、性能、安装和试验等方面的技术要求；系统装置设备包括预处理系统、两级RO系统、EDI系统、抛光混床系统、浓水回收系统、所有纯水管道系统、远地控制系统、现场监视系统水量计量系统和其他辅助系统；

产水水质要求

(1)无尘室使用的超纯水:

电阻率:≥18.2MΩ.CM

TOC  :≤lppb

细菌 :1cfu/100m1

微颗粒:< 0.2颗/ml @ 0.05-0.1um

阴阳离子:符合ASTM-D5127-13(2018)TpyeE-1.2标准(硼元素除外)

溶解氧(Dissolved Oxygen):N/A

(2)其他产线使用的纯水:

电阻率:≥15MΩ.CM

备注：

Resistivity ————以ON Line 电阻值计测试合格为准

Particle ————以 Particle counter连续测试7×24小时合格为准

Bacteria ————以委外合法检验公司检验合格为准

TOC ————以ON Line监测仪连续测试7×24小时合格为准

其余离子————以委外合法检验公司检验合格为准（如期间有疑问可进行连续3次合格为准）

检测机构为双方共同认可的第三方检测、检验机构（需国内一流实验室，必须有MA认证机构）

设备图片